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    电子/电器设备
    KRI 离子源
    KRI 离子源
     
    产品详细说明
    TEL: 021-63811212
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     KRI 霍夫曼&罗宾逊公司/美国  
     离子源  
    霍夫曼&罗宾逊公司位于美国丹佛,长期致力于多种离子源的开发和销售。KRI的离子源可以广泛应用于沉积稳定薄膜、纳米结构精密刻蚀和改善表面特性等真空工艺,KRI的产品是许多材料工艺应用中的通用设备,例如:   
    • 离子研磨/刻蚀 (IBE)
    • 离子束溅射沉积(IBSD)
    • 离子束辅助沉积(IBAD)
    • 表面抛光及平整
    • 表面改性及变形
    产品系列:
    End Hall无栅离子源系列
    *eH200 *eH400 *eH1000 *eH2000 *eH3000
    RFICP系列射频栅格离子源
    *RFICP40 *RFICP100 *RFICP140 *RFICP200 *RFICP300
    KDC系列霍夫曼栅格离子源
    *KDC10 *KDC40 *KDC75 *KDC100 *KDC160
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