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NS离子研磨
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NS用于系列的离子研磨设备，可以应用于研发以及规模生产，离子研磨系统是磁性材料，金，白金以及合金材料刻蚀的最佳技术选择，可以非常方便的研磨出多种材料。
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主要应用领域
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*薄膜磁头 *磁电子 *MR传感器 *MEMS *射频设备（RF）*光学器件 *超导
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产品线：
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10IBE（研发可用）
-10cm霍夫曼离子源，衬底尺寸：6英寸x1
-直冷，优异的均一性
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20IBE-C（规模生产可用）
-20cm霍夫曼离子源，衬底尺寸：:φ3英寸×8,φ4英寸×6
-直冷或间冷， 优异的均一性
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20IBE （规模生产可用）
-20cm霍夫曼离子源，衬底尺寸：:φ4英寸×12,φ6英寸×8
-直冷，优异的均一性
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